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產(chǎn)品中心分散機納米分散機XMD2000硅高分子微球高剪切研磨分散機
產(chǎn)品簡介
硅高分子微球高剪切研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。
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ARTICLES硅高分子微球高剪切研磨分散機
硅高分子復(fù)合微球材料高速分散機，硅碳復(fù)合負極材料高速分散機 ，鋰電池硅碳復(fù)合負極材料高速分散機，納米硅高速分散機,管線式高速分散機
高速分散機處理量大，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料100%通過分散剪切。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級
利用可聚合性單體和交聯(lián)劑作為硅的研磨介質(zhì)，對納米硅表面進行疏水化處理，然后加入炭黑及添加劑，通過高速剪切分散將納米硅研磨液分散在的水溶液中形成O/W型乳液，通過微懸浮聚合，得到硅/高分子復(fù)合微球，把納米硅固定在高分子微球內(nèi)部，然后進行離心分離、干燥、高溫?zé)崽幚恚玫戒囯x子電池用硅碳復(fù)合負極材料。本發(fā)明解決了納米硅從液態(tài)的分散狀態(tài)到干燥狀態(tài)的團聚問題，提供一種納米硅的分散和儲存方法
(1) 制備硅分散液：
(2) 把硅分散液轉(zhuǎn)入到裝有攪拌器的受惰性氣體保護的密閉容器中，向球磨好的硅分 散液中加入單體和交聯(lián)劑總量1~15wt%偶聯(lián)劑，以900~1500r/min速度攪拌，攪拌時間 30min，得到疏水化處理后的娃分散液；，形成有機單體/硅/炭黑分散液作為分散相；
(3) 往3倍于單體和交聯(lián)劑總量的去離子水中加入單體和交聯(lián)劑總量1~5. Owt%的 ，使其*溶解成均勻透明的溶液，再加入單體和交聯(lián)劑總量0. 005~0. 5wt%的 并讓其溶解，作為連續(xù)相；
(4) 把上述分散相邊攪拌邊加入到連續(xù)相中，使其均勻分散，然后再將該分散液加入到 高速剪切乳化分散機中進行乳化分散得乳化分散液；
(5) 將上述乳化分散液加入到裝備邊攪拌邊升溫至80°C，反應(yīng)30min，再升溫至90°C，反應(yīng)6~10h，得到固含量在20~ 35%范圍的娃/高分子復(fù)合微球乳液。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
硅高分子微球高剪切研磨分散機
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